桥头高精度石碣真空镀膜厂家

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2021-03-03 1:06:56 * 浏览: 2

石碣PVD真空电镀在大多数镀铝设备中,采用z*多的还是直接通电的电阻加热蒸发源蒸发源所用的坩埚材料一般为难熔金属(如W、Mo、Ta)和石墨。前者多用于间歇式蒸发设备中,后者多用于连续式蒸发设备中。    ②氮化硼合成导电陶瓷加热器。为了获得比石墨更加理想的蒸发器材料,在石碣真空镀膜设备中,广泛采用了一种新的蒸发器,即氮化硼合成导电陶瓷加热器。这种加热器是由耐腐蚀、耐热性能优良的氧化物、硼化物等材料通过热压、涂敷而成的一种具有导电性的陶瓷材料。。

石碣五金烤漆图10-9给出的是从一个小平面s到与s平面相平行的基片上的蒸发情况。

石碣纳米真空电镀 蒸发镀各种坩埚材料性能见表10-6。

石碣真空镀膜采用高频加热,温度可达1300℃mdash,1800℃,膜生长速率为0.2mu,m/min~1.0mu,m/min。

石碣PVD电镀因此,在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题    卷绕镀膜机真空抽气系统分上室下室两组,下室为蒸镀室,要求真空度高,主泵多为油扩散泵。上室为基材卷绕室,要求真空度较低,为罗茨泵机组或扩散泵一罗茨泵一机械泵组。一般蒸镀室要达到的真空度为1x10-3Pamdash,2times,10-3Pa,而工作压力为1times,10-2Pamdash,2times,10-2Pa,而卷绕室真空度通常较蒸镀室低一个数量级。有时卷绕镀膜机以增扩泵(油扩散泵的一种)为主泵,它的极限压力虽然不及油扩散泵,但其抽速范围向高压方向延伸一个数量级,非常适宜此类蒸发的镀膜过程。    目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发,其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好,使用寿命长,因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kWmdash,8kW,加热电压为10Vmdash,12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚,800mm时7只坩埚,1300mm时12只坩埚。

大量的廉价刀具(如钻头、丝锥),镀TiN镀层后可以加大进刀量,提高切削速度,提高生产率工模具、量刃具、精密轴承及其它易磨损件,在表面沉积耐磨镀层(如TiC等),可大大提高使用寿命。  在航空工业中,涡轮发动机工作温度很高,在发动机叶片上溅射一层Co-Cr-Al-Y合金后,对其抗高温氧化和抗腐蚀性能有明显的效果。如果镀上一层ATD-1型合金(35%~41%Cr,10%~12%AI,25%Y,其余为Ni),也具有良好的抗氧化和抗热腐蚀性能,它的寿命为通常燃气涡轮部件的氧化铝镀层的1倍~3倍。  航天设备有的要在超高真空、射线辐照、高温下工作,在这种恶劣环境下,一般液体润滑剂已无能为力,而航天发动机的功率及其结构相寿命,与诸如摩擦、磨损、磨蚀、腐蚀、气蚀、高温氧化、渗漏和疲劳有直接关系,因此迫切需要固体润滑膜。用真空蒸镀、离子镀、溅射三种方法获得的固体润滑膜已在航空航天设备的各种仪器、齿轮、螺丝、轴承以及滑动部件中得到广泛应用。作为防腐涂层,离子镀Al已成功用于飞机、宇宙飞船的各种异型部件,代替氢脆敏感的石碣电镀Cr层和在太空中易挥发的涂层。潮湿试验表明,离子镀铝抗蚀层远比石碣电镀镍和石碣电镀金性能优越。    在电子学方面,石碣真空镀膜技术是集成电路向高集成度、高性能、高可靠和高生产率发展的重要保证。有人估计,大规模集成电路有一半工序必须在真空条件或真空设备中进行,而在研制超大规模集成电路时,所需真空工艺和设备则占了75%以上。  在能源科学方面,正在研究的有各种结构的薄膜太阳能电池,如非晶硅、III-V族(如CaAs)、Ⅱ一Ⅳ族化合物(如Cds-Cu2S)薄膜太阳能电池等。

各种蒸发器材料所适用的蒸发金属(膜材),其匹配性见表10-5。

其工作原理是先向机内水箱注入一定量的水,通过制冷系统将水冷却,再由水泵将低温冷却水送入需冷却的设备,冷冻水将热量带走后温度升高再回流到水箱,达到冷却的作用冷却水温可根据要求自动调节,长期使用可节约用水。    冷水机能控制石碣真空镀膜机的温度,以保证镀件的高质量。如果不配冷水机就不能使石碣真空镀膜机达到高精度、高效率控制温度的目的,因为自然水和水塔散热都不可避免地受到自然气温的影响,而且此方式控制是极不稳定的。    冷水机具有完全独立的制冷系统,绝不会受气温及环境的影响,水温在5℃~30℃范围内调节控制,因而可以达到高精度、高效率控制温度的目的,冷水机设有独立的水循环系统。。

石碣真空镀膜设备型号编制方法:

装置采用射频感应加热,反应在基片与感应体附近发生,管壁沉积很少,硅膜生长速率为1mu,m/minmdash,3mu,m/min。